スパトリートメント UVナノベースG 30g/New SPA Treatment

Product details

スパトリートメント UVナノベースG 30g 水にこだわった前製品の水へのこだわりをさらに追及し、 空と大地の水と、様々な美容成分を配合したNew SPA Treatmentを皆様で是非ご体感ください。 商品説明 基礎ライン共通成分1:<アクアスフィアコンプレックス> ・アクアスフィアコンプレックスとは、アルプスの氷河水と沖縄のアロエ水のコンプレックスです。 アルプス氷河水:アルプスの保護地域から溶け出した氷河は高い純度と豊富なミネラルを含みます。 基礎ライン共通成分2:<プラントコンプレックス> ・3種類の植物エキスを混合したエキスです。 ・どなたのお肌の色にも馴染み、ファンデーションとの馴染みもよく、化粧崩れしにくい下地です。 紫外線吸収剤不使用ですが、日常のUVをカット。 使用方法 化粧水、美容液等で整えた後、適量を手に取り、お肌に馴染ませて下さい。 全成分 シクロペンタシロキサン、酸化亜鉛、水、酸化チタン、パルミチン酸エチルヘキシル、BG、フェニルトリメチコン、ジメチコン、PEG/PPG-19/19ジメチコン、グリセリン、メタクリル酸メチルクロスポリマー、トリメチルシロキシケイ酸、タルク、水酸化Al、イソステアリン酸、PEG-9ポリジメチルシロキシエチルジメチコン、アロエベラ葉水、ライチー種子エキス、サトザクラ花エキス、イザヨイバラエキス、グリコシルトレハロース、加水分解水添デンプン、ヒアルロン酸Na、α-アルブチン、チャ葉エキス、ルイボスエキス、クララ根エキス、プルーン分解物、シャクヤク根エキス、カミツレ花エキス、ベニバナエキス、マグワ根皮エキス、ヒメフウロエキス、ハトムギ種子エキス、アーチチョーク葉エキス、アロエベラ葉エキス、シリカ、(HDI/トリメチロールヘキシルラクトン)クロスポリマー、イソステアリン酸ポリグリセリル-2、塩化Na、(ベヘン酸/エイコサン二酸)グリセリル、ハイドロゲンジメチコン、レシチン、メチコン、アスコルビン酸、リンゴ酸、酸化鉄、フェノキシエタノール、エタノール 注意事項 お肌に異常が生じてないかよく注意してご使用ください。 化粧品がお肌に合わないとき即ち次のような場合には、使用を中止して下さい。 そのまま化粧品類の使用を続けますと、症状を悪化させることがありますので、皮膚科専門医等に御相談されることをおすすめいたします。 ・使用中、赤み、はれ、かゆみ、刺激、色抜け(白斑等)や黒ずみ等の異常があらわれた場合。 ・使用をしたお肌に、直接日光があたって上記のような異常があらわれた場合。 ・目に入ったときはただちに洗い流してください。 ・極端に高温又は低温の場所、直射日光のあたる場所、乳幼児の手の届く場所には保管しないでください。 ・広告文責（社名:癒し工房・連絡先電話番号：06-6636-3800） ・メーカー名：スパトリートメント ・製造国：日本製 ・商品区分：化粧品