ヘパトリート薬用モイストUV 50g【医薬部外品】

Product details

敏感肌※1を紫外線・乾燥・肌あれからトータルに守るヘパトリート薬用モイストUV。最高レベルのUVカット効果※2と薬用スキンケア成分を両立し、赤ちゃんにも使える低刺激処方を実現しました。 ※1 すべての人に皮ふ刺激が起きないというわけではありません。 ※2 SPF50+/PA++++/UV耐水性★★のこと。 低刺激処方ながら、ウォータープルーフで最高レベルのUVカット。さらっと伸びるクリームは保湿有効成分・ヘパリン類似物質と肌あれ有効成分・グリチルリチン酸ジカリウムを配合し乾燥・肌あれを防ぎながら日やけから肌を守ります。 低刺激処方(無香料、無着色、無鉱物油、アルコールフリー、パラベンフリー、完全界面活性剤フリー、紫外線吸収剤フリー) ※パッチテスト済み ※アレルギーテスト済み (すべての人に皮ふ刺激が起きないというわけではありません) 【有効成分】 ヘパリン類似物質 グリチルリチン酸ジカリウム 【その他の成分】精製水、1,3-ブチレングリコール、微粒子酸化チタン、架橋ポリスチレン、ポリヒドロキシステアリン酸、マカデミアナッツ油脂肪酸フィトステリル、メチルポリシロキサン、1,2-ペンタンジオール、デカメチルシクロペンタシロキサン、イソノナン酸イソノニル、濃グリセリン、シロキクラゲ多糖体、L-グルタミン酸、N-ステアロイルジヒドロスフィンゴシン、N-ステアロイルフィトスフィンゴシン、ヒドロキシステアリルフィトスフィンゴシン、ミツロウ、L-ピロリドンカルボン酸、L-アルギニン、L-アスパラギン酸、DL-ピロリドンカルボン酸ナトリウム液、グリシン、L-アラニン、L-セリン、L-バリン、L-プロリン、L-イソロイシン、L-スレオニン、L-ヒスチジン、L-フェニルアラニン、低温焼成酸化亜鉛、パルミチン酸2-エチルヘキシル、水酸化ナトリウム、乳酸ナトリウム液、含水ケイ酸、イソステアリン酸、カルボキシメチルセルロースナトリウム、セタノール、メチルシロキサン網状重合体、低粘度メチルハイドロジェンポリシロキサン、架橋型メチルポリシロキサン、水酸化アルミニウム、疎水化ヒドロキシプロピルメチルセルロース、フェノキシエタノール ●メーカー：日本ゼトックス株式会社〒163-0512東京都新宿区西新宿1丁目26番2号 新宿野村ビル12F本社 03-5323-2020●区分：医薬部外品●広告文責：(株)キリン堂 078-413-1055